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第一百六十一章 SOC上帝芯片问世!

第一百六十一章 SOC上帝芯片问世! (第2/2页)

当看见那抹熟悉的黄毛身影,冯承铭顿时堆满笑容道:“林首席你果然也在。”
  
  “我就知道你会来。”
  
  林天淡淡道。
  
  他当初只交了两块光掩膜版怎么生产芯片,可没有交四块光掩膜版怎么去生产芯片。
  
  两块和四块,这里面的门门道道如果没专人领路,一般人还真不一定琢磨得出来。
  
  高永明派冯承铭过来,除了保证光掩膜版安全外,其实也想着让他去学学,四块光掩膜版怎么去生产SOC上帝芯片。
  
  要知道龙芯国际芯片工厂,可是有20纳米光刻机的。
  
  两次多重曝光技术10纳米,四次是不是5纳米芯片了?
  
  当然了。
  
  这只是简单猜测。
  
  况且那台20纳米光刻机,荷兰工程师也不会轻易让他们碰,最多就用用28纳米光刻机,前提还得有相应的图纸。
  
  冯承铭淡然一笑道:“可以学习进步的机会,我肯定不会错过,林首席可不要吝啬教学啊。”
  
  “教,国产联盟嘛。”
  
  林天耸了耸肩道。
  
  “哈哈,那就先谢谢了。”冯承铭心情大好。
  
  两人的这番对话,让任国非、段勇平、陈永等企业老总不由得暗自吃惊。
  
  冯承铭是谁?
  
  帝都龙科院的顶级光刻院士!
  
  据说他参与的光刻项目,无不是国家重点项目,是龙国为数不多的几位光刻领域院士。
  
  听着两人的交谈,他们怎么感觉林天的光刻技术,是远远在冯承铭之上的?
  
  难不成……
  
  多重曝光技术……
  
  几人想到了什么,内心掀起惊涛骇浪。
  
  他们的目光不由得看向陈星的侧脸,好像在询问,这种人才总不可能是曲程介绍的了吧?
  
  如果不是曲程介绍,那陈星是怎么把他招到麾下的?
  
  救过他的命?
  
  还是说,陈星真有大背景?
  
  在任国非几人疑惑满天飞时,陈星直接无视了他们目光,而是看向冯承铭道:
  
  “既然四块光掩膜版也到了,那我们就共同见证,这第一块SOC上帝芯片的问世吧。”
  
  话音刚落,冯承铭点了点头,连忙附和道:“那我们进去聊,正好可以让林首席教学教学。”
  
  “那哥几个就进去吧。”
  
  段勇平也招呼道。
  
  陈永强压心中激动,同样招呼道:“没错没错,我们也别在这吹冷风了,进去工厂内部再说。”
  
  现在他的嘴角比AK还难压,他实在太兴奋了。
  
  无意淘来的48纳米DUV光刻机,在这个时候派上用场,还能生产14纳米芯片,今晚最大受益人除了陈星就是他陈永了。
  
  因为见证过28纳米的开天基带芯片生产,现在的48纳米光刻机在他眼里可是香饽饽,为此他这段时间也在想尽办法去淘光刻机,为国产联盟做贡献。
  
  “那就走吧。”
  
  林天率先移开脚步。
  
  这几天为了教蓝绿厂工程师,他可谓是煞费苦心,都把这里当成自己家了。
  
  好在,有一批人悟道了。
  
  ……
  
  当陈星冯承铭等人走进工厂,林天轻车熟路地将众人领到了换衣室更换防尘服。
  
  穿戴整齐,确保没有纰漏以后,他们带着清洁过后的皮箱走进了光刻机的洁净室。
  
  “老总们好!”
  
  “林首席好!”
  
  蓝绿厂的光刻工程师们早早等候,他们早就知道,今晚会有大人物到来。
  
  “不用客气了。”陈永摆了摆手,看向林天道:“林首席你看现在该怎么弄?”
  
  林天没有急着回答他,而是看向陈星,征求同意道:“总裁,那我可要开始了?”
  
  四块光掩膜版的多重曝光技术,如果一旦演示完成,很有可能让其他工程师学了去,他才会特意征求同意。
  
  要是陈星摇头示意,他是可以留一手的。
  
  然而陈星觉得没这必要,未来肯定还是要靠龙芯国际、蓝绿厂帮忙量产芯片的,多重曝光技术也算是让他们尝些甜头,巩固彼此之间的利益了。
  
  “开始吧。”
  
  陈星淡淡回应。
  
  随着陈星点头,林天开始了他的光刻独秀。
  
  利索打开冯承铭带来的皮箱,露出里面的四块光掩膜版。
  
  因为考虑到表面有灰尘,生产前的第一步就需要清洗,紧接着才是区分光掩膜版型号。
  
  四块光掩膜版不比两块的,它需要区分好顺序,不能出错,出错就相当于毁坏了一张硅片。
  
  龙芯国际也没马虎,四块掩膜版都按照林天当初的要求,标注上的光刻序号。
  
  当生产设备都调试完成,林天大手一挥道:“准备生产,硅片清洗烘干涂胶。”
  
  不等蓝绿厂的工程师行动,冯承铭亲自拿硅片去清洗,并放入烘干的运送设备。
  
  林天则是安装掩膜版,数次校准以后,他讲解道:“第一块光掩膜版可以随意放,因为它是地基,之后的三块光掩膜版,必须要做到每一步都要在预定精度范围,1纳米误差都不行。”
  
  “明白了。”
  
  “明白了。”
  
  周围工程师纷纷应答。
  
  在众人围观下,林天开始启动光刻机,进行第一次的曝光,在硅片上作画图案。
  
  第一次曝光结束。
  
  取出硅片蚀刻清洗,紧接着是第二次涂抹光刻胶,林天用上了第二台光刻机。
  
  第二次曝光很明显,他比第一次专注了许多。
  
  “第二次光刻不能用任何偏差,曝光的图案应该在第一次图案纳米图案的中间位置。”
  
  “这就好比一条主干道,第一次我们是修了这个主干道,第二次就是在这个主干道的中间画上一条两边对称的线。”
  
  没有技巧,全凭经验。
  
  林天启动光刻机,进行第二次的曝光,让光刻胶疲软,紧接着继续用蚀刻溶剂清洗。
  
  每次曝光、蚀刻都会在半导体硅片留下图案,一连四次的曝光让冯承铭等工程师看得目瞪口呆。
  
  最后一次时,林天继续讲解道:“第四次曝光,不仅要进行光刻,还要进行离子注入,增加电导性,说白了,就是你们之前学的单次芯片生产步骤。”
  
  “但重点是,我第三步是先刻画道路的左边,第四步,则是要刻画道路的右边,这样一来,完整的电路图案就显现了。”
  
  简单讲述后,他不断用设备调整光掩膜版,当达到预定位置时,他再次启动光刻机。
  
  光刻机在接收到启动指令后,立即就对12寸半导体,接近三百个芯片裸片进行曝光。
  
  五分钟后。
  
  半导体硅片被取出。
  
  此刻所有人大气不敢喘,冯承铭接过硅片以后,亲自去切割检测参数性能。
  
  当检测仪器显示,该裸片的纳米等级是14纳米,并且电路图完美运行那刻,他强压心中的激动,郑重宣布道:
  
  “成了!”
  
  “SOC上帝芯片成了!!!”
  
  感谢读者大佬们的月票和推荐票,感谢读者2022…0433大佬的打赏,还有感谢各位读者大佬的每日追读。
  
  咳咳,刚才复制章节错了,现在改回来了,抱歉。
  
  (本章完)
  
  
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